重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)恒諾水(shui)處(chu)理(li)設(she)備有限公司從事水(shui)處(chu)理(li)事業十多(duo)年，已成為(wei)重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)純(chun)水(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)設(she)備，重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)實驗室超(chao)純(chun)水(shui)設(she)備，重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)工業電子級超(chao)純(chun)水(shui)設(she)備,重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)實驗室廢水(shui)系統，重(zhong)(zhong)(zhong)慶(qing)礦用水(shui)處(chu)理(li)設(she)備的(de)專業生產廠家(jia)，致力于(yu)為(wei)客(ke)戶提(ti)供優質的(de)水(shui)處(chu)理(li)解決方案(an)，今天分享(xiang)水(shui)處(chu)理(li)系統介(jie)質過濾，供大家(jia)參考

水處理系統介質過濾

過濾(lv)(lv)器可(ke)以除去顆(ke)粒、懸浮(fu)物和(he)(he)膠(jiao)體(ti)，這是(shi)基于當(dang)水(shui)(shui)流(liu)流(liu)過過濾(lv)(lv)介質(zhi)(zhi)的(de)(de)床層時(shi)，顆(ke)粒、懸浮(fu)物和(he)(he)膠(jiao)體(ti)會附著介質(zhi)(zhi)的(de)(de)表(biao)面。過濾(lv)(lv)出(chu)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質(zhi)(zhi)取決于雜質(zhi)(zhi)和(he)(he)過濾(lv)(lv)介質(zhi)(zhi)的(de)(de)大(da)小、表(biao)面電荷和(he)(he)形(xing)狀、原(yuan)水(shui)(shui)組成和(he)(he)操(cao)作(zuo)條件等，設計和(he)(he)操(cao)作(zuo)合理的(de)(de)話，通常經過介質(zhi)(zhi)過濾(lv)(lv)器處理就可(ke)以達到SDI15≤5

水(shui)處理系(xi)統最常(chang)(chang)用的(de)過(guo)(guo)(guo)濾介(jie)質(zhi)是石英砂和無(wu)煙煤，細砂過(guo)(guo)(guo)濾器(qi)石英砂顆粒有效(xiao)直(zhi)徑為0.35~0.5mm，無(wu)煙煤過(guo)(guo)(guo)濾器(qi)顆粒有效(xiao)直(zhi)徑為0.7~0.8mm，當采(cai)用石英砂上填充無(wu)煙煤的(de)雙(shuang)介(jie)質(zhi)過(guo)(guo)(guo)濾器(qi)時，它允許(xu)懸浮物等(deng)雜質(zhi)進入過(guo)(guo)(guo)濾層(ceng)內部，產生(sheng)更(geng)有效(xiao)的(de)深(shen)層(ceng)過(guo)(guo)(guo)濾而(er)延長清洗間隔。過(guo)(guo)(guo)濾介(jie)質(zhi)的(de)最小設計總(zong)床層(ceng)深(shen)度為0.8m，在雙(shuang)介(jie)質(zhi)過(guo)(guo)(guo)濾器(qi)中，通常(chang)(chang)填充0.5m高(gao)的(de)石英砂和0.4m高(gao)的(de)無(wu)煙煤。

有兩種形式(shi)的(de)過(guo)(guo)濾(lv)器(qi)，重力(li)(li)過(guo)(guo)濾(lv)和壓(ya)力(li)(li)過(guo)(guo)濾(lv)。因(yin)為壓(ya)力(li)(li)濾(lv)器(qi)筒體可(ke)耐壓(ya)，能用較高(gao)的(de)過(guo)(guo)濾(lv)床(chuang)層、較精細(xi)的(de)過(guo)(guo)濾(lv)介質(zhi)粒(li)徑和較高(gao)的(de)過(guo)(guo)濾(lv)濾(lv)速(su)，設計過(guo)(guo)濾(lv)流速(su)通常小于(yu) 10~20m/h，反(fan)洗(xi)流速(su)40~50m/h。對高(gao)污染傾向的(de)原水(shui)(shui)(如地(di)表水(shui)(shui)、受污染的(de)井水(shui)(shui)或廢水(shui)(shui))，過(guo)(guo)濾(lv)流速(su)必須(xu)小于(yu) 10m/h(一般為5m/h)或采(cai)用二(er)級介質(zhi)過(guo)(guo)濾(lv)器(qi)。操(cao)作過(guo)(guo)程(cheng)中，待(dai)過(guo)(guo)濾(lv)的(de)原水(shui)(shui)進入濾(lv)器(qi)頂部，滲濾(lv)透過(guo)(guo)濾(lv)層，進入底部的(de)集水(shui)(shui)系統，當(dang)壓(ya)力(li)(li)式(shi)濾(lv)器(qi)進出(chu)口間壓(ya)差(cha)增加(jia) 0.3~0.6bar，重力(li)(li)式(shi)濾(lv)器(qi)壓(ya)差(cha)增加(jia) 1.4mH2O 時，先(xian)反(fan)洗(xi)和然(ran)后(hou)正洗(xi)濾(lv)器(qi)以(yi)除去沉積物，反(fan)洗(xi)一般需要 10分鐘(zhong)以(yi)上(shang)，大(da)直徑的(de)濾(lv)器(qi)還(huan)須(xu)設置(zhi)輔助氣源(yuan)擦(ca)洗(xi)。必須(xu)避免頻(pin)繁地(di)開機(ji)和停機(ji)，因(yin)為每次流速(su)的(de)急卻變化會將(jiang)原先(xian)已沉積在(zai)介質(zhi)上(shang)的(de)物質(zhi)又釋放出(chu)來。介質(zhi)過(guo)(guo)濾(lv)的(de)設計和操(cao)作運行(xing)細(xi)節(jie)可(ke)以(yi)在(zai)相關文(wen)獻(xian)中獲(huo)得。

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